公司动态_河北普莱斯曼金刚石科技有限公司

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915MHz高功率MPCVD装置介绍
915MHz，75kW高功率微波等离子体（MPCVD）金刚石膜沉积装置直径3-5英寸（φ76-127mm）大面积高质量金刚石膜河北普莱斯曼金刚石科技有限公司与北京科技大学于2014年联合研制了一台75kW， 915MHz高功率微波等离子体金刚石膜沉积装置。经过两年多的设备改进与工艺探索，目前我单位采用该设备可成功制备直径达5英寸（φ127mm），厚度0.1-2mm的大面积高质量金刚石膜。通过控制生长条件，可为客户提供不同规格和特性的优质金刚石膜产品。

2017.05.01
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单晶简介
本公司采用化学气相沉积方法外延生长，获得了厚度2mm以上的高纯度金刚石单晶。经检验，样品颜色和净度均可达到宝石级水平，通过工艺参数的优化，单晶生长速率可达30um/h，抛光后样品厚度公差可达±0.05mm，晶向偏差±2°，表面粗糙度Ra<30nm。

2017.05.01
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CVD金刚石膜窗口材料的制备
我公司“CVD金刚石膜窗口材料的制备”项目获石家庄市科技局立项。课题编号：101081231A。本项目的目标产品是制备热导率≥20W/CM·K，在波长＞8μm波段透过率达到65%的CVD金刚石窗口材料。项目完成后，将实现CVD金刚石窗口材料的小批量生产。

2017.01.19
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高耐磨性化学气相（CVD）沉积金刚石
我公司“高耐磨性化学气相沉积（CVD）金刚石”项目获得国家中小企业创新基金资助，立项代码：10C26211303686。机械级CVD金刚石厚膜是我公司的主要产品，耐磨性是该产品的重要指标，通常用磨耗比来表示。目前主导产品的磨耗比一般在30万左右，本项目的目的是研制磨耗比>60万的高耐磨性CVD金刚石，从而提高CVD金刚石产品的性价比，增强产品竞争力，促进CVD金刚石的产业化。该项目正在进行中。

2017.01.19
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3英寸SAW器件金刚石膜/硅复合基片
本研究应用直流电弧喷射化学气相沉积金刚石膜技术，在3英寸硅衬底表面上沉积金刚石薄膜，已成功制备出总厚度小于0.7mm的金刚石膜/硅复合基片，主要应用于制作SAW器件等。基本参数如下：直径≥3英寸金刚石薄膜厚度>6μm 表面粗糙度Ra<10nm 平面度<40μm/3英寸

2017.01.19
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直流电弧等离子体喷射化学气相沉积金刚石膜设备
DC Arc Plasma Jet CVD金刚石设备是在国家“863”计划的重点资助下完成的。该设备分为LP60、LP120、LP200三种规格。LP60的沉积区域为Φ60mm，可用于制备自支撑金刚石厚膜，沉积速率可达40um/h。LP100和LP200设备，在不增加输入功率的情况下，将沉积区域扩大，生长速率可达8--15um/h，主要用于沉积金刚石薄膜涂层。设备特点： ■ 利用动态磁扩弧技术，实现了金刚石膜的大面积、均匀沉积； ■ 设备运行可靠，可长时间连续运转； ■ 沉积速率快、质量高、均匀性好； ■ 改变工艺参数，可用于沉积多种用途的金刚石膜。

2017.01.19
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